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Système de buse de dispersion ultrasonique personnalisé 100 kHz
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Équipement de sonochimie par ultrasons

Traitement de fusion par ultrasons

Usinage aidé ultrasonique

Installation de fabrication ultrasonique

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Machine à coudre par ultrasons

Découpeuse ultrasonique

Convertisseur de soudure ultrasonore

Transducteur de soudure ultrasonore

transducteur piézoélectrique ultrasonique

Oscillateur ultrasonique

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Système de buse de dispersion ultrasonique personnalisé 100 kHz
  • Nom
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Système de buse de dispersion ultrasonique personnalisé 100 kHz

MOQ: 1 unité
Prix: Negotation
Emballage Standard: Emballé de carton
Mode De Paiement: T/T, union occidentale
Capacité D'approvisionnement: 1000 unité par mois
Informations détaillées
Description du produit
Informations détaillées
Lieu d'origine
Chine
Nom de marque
FUNSONIC
Certification
CE
Numéro de modèle
FSW-1202-L
Nom de production:
Atomisation de buse ultrasonique à diffusion 100Khz
Fréquence:
100 kHz
Puissance maximale:
15W
Plage de taille de particules automatisée:
18-46μm
Flux de pulvérisation:
0.5 à 20 ml
Viscosité liquide:
Le temps de fonctionnement
Taille des particules:
<5>
Application:
largement appliqué dans les MEMS, les plaquettes semi-conductrices, les piles à combustible PEM, les
Mettre en évidence:

Buse de dispersion ultrasonique 100 kHz

,

Système de revêtement par pulvérisation ultrasonique personnalisé

,

Système de buse ultrasonique avec garantie

Description du produit

Système de buse de dispersion ultrasonique personnalisé 100 kHz



Description: 


Notre système de buse de dispersion ultrasonique personnalisé 100 kHz adopte une résonance à haute fréquence du transducteur piézoélectrique de 100 kHz pour convertir les milieux liquides en gouttelettes microniques douces et uniformément dispersées. La buse est dotée d'interfaces fluides multi-ports personnalisables, et la disposition des canaux de fluide peut être développée individuellement selon les exigences du processus des clients. Équipé d'une structure de dispersion vortex dédiée, le gaz porteur génère un champ de pulvérisation tourbillonnant stable et contrôlable à grand angle, conférant au flux d'aérosol d'excellentes performances de déflexion spatiale et d'enveloppement conforme.

Pour les géométries de pièces 3D non standard, il réalise un revêtement conforme adaptatif, adapté aux surfaces courbes profilées, aux tranchées profondes, aux micro-marches et aux parois minces. Il résout les limitations courantes des buses ultrasoniques standard dans les processus personnalisés, telles que le motif de pulvérisation inadéquat, la couverture inégale des parois latérales et les restrictions sur l'alimentation multi-composants.

Le système de buse peut être équipé en option d'assemblages d'alimentation micro-canaux multiples, de régulateurs de gaz porteur de précision, de plateformes de mouvement XYZ et de modules de contrôle de température. Il offre une atomisation à faible cinétique sans impact haute pression, protégeant entièrement les substrats de précision sensibles. La perte de brouillard est considérablement réduite, offrant une utilisation des matériaux plus élevée que la pulvérisation conventionnelle à deux fluides. Le chemin d'écoulement interne peut être optimisé pour les suspensions spécifiques des clients afin d'améliorer les performances anti-colmatage et d'assurer un fonctionnement stable à long terme.

L'épaisseur du revêtement peut être ajustée avec précision de quelques dizaines de nanomètres à quelques dizaines de microns avec une excellente consistance de film. Des chemins d'écoulement, des ports et des largeurs de pulvérisation personnalisables sont disponibles pour des solutions multi-composants spéciales et des nano-suspensions à haute teneur en solides. Largement déployé dans les MEA de piles à combustible, les semi-conducteurs, les MEMS, les capteurs, les cathéters médicaux, les films minces optiques et les revêtements isolants électroniques pour la R&D et les projets pilotes personnalisés, il répond aux exigences de fabrication personnalisées de films ultra-minces.



Paramètres: 


Modèle FSW-1002-L
Nom Atomisation par buse ultrasonique à dispersion 100 kHz
Fréquence 100 kHz
Plage de taille des particules atomisées (μm) 18-46
Largeur de pulvérisation (mm) 40-80
Débit de pulvérisation (ml/min) 0,5-20
Hauteur de pulvérisation (mm) 30-80
Viscosité du liquide (cps) <15
Taille des particules (μm) <5
Pression de dérivation (Mpa) <0,05
Application largement appliqué dans les MEMS, les plaquettes de semi-conducteurs, les piles à combustible PEM, les capteurs, les cathéters à ballonnet médicaux et les films minces optiques



Avantages clés :


✅ L'atomisation à haute fréquence de 100 kHz produit des gouttelettes étroitement distribuées, équilibrant la qualité d'atomisation et le débit

✅ Entièrement personnalisable : les ports de fluide, les canaux d'écoulement internes et la largeur de pulvérisation peuvent être développés pour correspondre à votre processus

✅ La pulvérisation de dispersion vortex dédiée à grand angle permet un revêtement conforme uniforme sur les parois latérales et les tranchées des structures 3D irrégulières

✅ La pulvérisation douce à faible cinétique évite d'endommager les substrats de précision et supprime l'agglomération des nano-suspensions

✅ Contrôle précis de l'épaisseur du film à l'échelle nanométrique avec une uniformité de revêtement stable

✅ Chemin d'écoulement personnalisé pour des suspensions spécifiques, performances anti-colmatage améliorées et réduction des déchets de matériaux

✅ Conception modulaire, intégration flexible avec des platines chauffantes, des mandrins à vide et des plateformes de mouvement automatiques



Système de buse de dispersion ultrasonique personnalisé 100 kHz


Système de buse de dispersion ultrasonique personnalisé 100 kHz

Système de buse de dispersion ultrasonique personnalisé 100 kHz

Les étiquettes: 

Machine de pulvérisation médicale de polymères anti-resténose,  

Type de sonde à ultrasons buse 40Khz,  

Appareil de pulvérisation par ultrasons

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MOQ: 1 unité
Prix: Negotation
Emballage Standard: Emballé de carton
Mode De Paiement: T/T, union occidentale
Capacité D'approvisionnement: 1000 unité par mois
Informations détaillées
Description du produit
Informations détaillées
Lieu d'origine
Chine
Nom de marque
FUNSONIC
Certification
CE
Numéro de modèle
FSW-1202-L
Nom de production:
Atomisation de buse ultrasonique à diffusion 100Khz
Fréquence:
100 kHz
Puissance maximale:
15W
Plage de taille de particules automatisée:
18-46μm
Flux de pulvérisation:
0.5 à 20 ml
Viscosité liquide:
Le temps de fonctionnement
Taille des particules:
<5>
Application:
largement appliqué dans les MEMS, les plaquettes semi-conductrices, les piles à combustible PEM, les
Quantité de commande min:
1 unité
Prix:
Negotation
Détails d'emballage:
Emballé de carton
Conditions de paiement:
T/T, union occidentale
Capacité d'approvisionnement:
1000 unité par mois
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Système de buse ultrasonique avec garantie

Description du produit

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Description: 


Notre système de buse de dispersion ultrasonique personnalisé 100 kHz adopte une résonance à haute fréquence du transducteur piézoélectrique de 100 kHz pour convertir les milieux liquides en gouttelettes microniques douces et uniformément dispersées. La buse est dotée d'interfaces fluides multi-ports personnalisables, et la disposition des canaux de fluide peut être développée individuellement selon les exigences du processus des clients. Équipé d'une structure de dispersion vortex dédiée, le gaz porteur génère un champ de pulvérisation tourbillonnant stable et contrôlable à grand angle, conférant au flux d'aérosol d'excellentes performances de déflexion spatiale et d'enveloppement conforme.

Pour les géométries de pièces 3D non standard, il réalise un revêtement conforme adaptatif, adapté aux surfaces courbes profilées, aux tranchées profondes, aux micro-marches et aux parois minces. Il résout les limitations courantes des buses ultrasoniques standard dans les processus personnalisés, telles que le motif de pulvérisation inadéquat, la couverture inégale des parois latérales et les restrictions sur l'alimentation multi-composants.

Le système de buse peut être équipé en option d'assemblages d'alimentation micro-canaux multiples, de régulateurs de gaz porteur de précision, de plateformes de mouvement XYZ et de modules de contrôle de température. Il offre une atomisation à faible cinétique sans impact haute pression, protégeant entièrement les substrats de précision sensibles. La perte de brouillard est considérablement réduite, offrant une utilisation des matériaux plus élevée que la pulvérisation conventionnelle à deux fluides. Le chemin d'écoulement interne peut être optimisé pour les suspensions spécifiques des clients afin d'améliorer les performances anti-colmatage et d'assurer un fonctionnement stable à long terme.

L'épaisseur du revêtement peut être ajustée avec précision de quelques dizaines de nanomètres à quelques dizaines de microns avec une excellente consistance de film. Des chemins d'écoulement, des ports et des largeurs de pulvérisation personnalisables sont disponibles pour des solutions multi-composants spéciales et des nano-suspensions à haute teneur en solides. Largement déployé dans les MEA de piles à combustible, les semi-conducteurs, les MEMS, les capteurs, les cathéters médicaux, les films minces optiques et les revêtements isolants électroniques pour la R&D et les projets pilotes personnalisés, il répond aux exigences de fabrication personnalisées de films ultra-minces.



Paramètres: 


Modèle FSW-1002-L
Nom Atomisation par buse ultrasonique à dispersion 100 kHz
Fréquence 100 kHz
Plage de taille des particules atomisées (μm) 18-46
Largeur de pulvérisation (mm) 40-80
Débit de pulvérisation (ml/min) 0,5-20
Hauteur de pulvérisation (mm) 30-80
Viscosité du liquide (cps) <15
Taille des particules (μm) <5
Pression de dérivation (Mpa) <0,05
Application largement appliqué dans les MEMS, les plaquettes de semi-conducteurs, les piles à combustible PEM, les capteurs, les cathéters à ballonnet médicaux et les films minces optiques



Avantages clés :


✅ L'atomisation à haute fréquence de 100 kHz produit des gouttelettes étroitement distribuées, équilibrant la qualité d'atomisation et le débit

✅ Entièrement personnalisable : les ports de fluide, les canaux d'écoulement internes et la largeur de pulvérisation peuvent être développés pour correspondre à votre processus

✅ La pulvérisation de dispersion vortex dédiée à grand angle permet un revêtement conforme uniforme sur les parois latérales et les tranchées des structures 3D irrégulières

✅ La pulvérisation douce à faible cinétique évite d'endommager les substrats de précision et supprime l'agglomération des nano-suspensions

✅ Contrôle précis de l'épaisseur du film à l'échelle nanométrique avec une uniformité de revêtement stable

✅ Chemin d'écoulement personnalisé pour des suspensions spécifiques, performances anti-colmatage améliorées et réduction des déchets de matériaux

✅ Conception modulaire, intégration flexible avec des platines chauffantes, des mandrins à vide et des plateformes de mouvement automatiques



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Type de sonde à ultrasons buse 40Khz,

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