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Équipement de pulvérisation à haute fréquence à ultrasons de 120 kHz
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soudure ultrasonique en métal

Machine à revêtement par pulvérisation par ultrasons

Couche à l'indium par ultrasons

Équipement de sonochimie par ultrasons

Traitement de fusion par ultrasons

Usinage aidé ultrasonique

Installation de fabrication ultrasonique

machine de soudage plastique par ultrasons

Machine à coudre par ultrasons

Découpeuse ultrasonique

Convertisseur de soudure ultrasonore

Transducteur de soudure ultrasonore

transducteur piézoélectrique ultrasonique

Oscillateur ultrasonique

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Équipement de pulvérisation à haute fréquence à ultrasons de 120 kHz
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Équipement de pulvérisation à haute fréquence à ultrasons de 120 kHz

MOQ: 1 unité
Prix: Negotation
Emballage Standard: Emballé de carton
Mode De Paiement: T/T, union occidentale
Capacité D'approvisionnement: 1000 unité par mois
Informations détaillées
Description du produit
Informations détaillées
Lieu d'origine
Chine
Nom de marque
FUNSONIC
Certification
CE
Numéro de modèle
FSW-1202-L
Nom de production:
Atomisation ultrasonique de buse de diffusion 120Khz
Fréquence:
120 kHz
Puissance maximale:
10W
Plage de taille de particules automatisée:
10-35μm
Flux de pulvérisation:
0.5 à 20 ml
Viscosité liquide:
<10cps
Taille des particules:
<5>
Application:
largement appliqué dans les MEMS, les plaquettes semi-conductrices, les piles à combustible PEM, les
Mettre en évidence:

Équipement de pulvérisation par ultrasons à 120 kHz

,

pulvérisation de dispersion par ultrasons à haute fréquence

,

Machine de revêtement par pulvérisation ultrasonique avec garantie

Description du produit

Équipement de pulvérisation par dispersion ultrasonique à haute fréquence 120 kHz



Description: 


L'équipement de pulvérisation par dispersion ultrasonique à haute fréquence 120 kHz utilise la résonance à haute fréquence de 120 kHz des transducteurs piézoélectriques pour atomiser en douceur le liquide d'alimentation en gouttelettes fines de taille micrométrique uniformément dispersées. Doté d'un canal de flux vortex intégré à l'intérieur de la buse, le gaz porteur forme un champ de pulvérisation par dispersion à large angle rotatif, conférant au flux d'aérosol une excellente capacité d'enveloppement du flux.

Il offre un revêtement conforme, intégré et uniforme pour les pièces avec des surfaces planes, des marches, des tranchées, des parois latérales, des surfaces courbes et d'autres microstructures 3D diverses. Il résout une limitation industrielle de longue date des buses ultrasoniques focalisées conventionnelles : un mouillage médiocre sur les parois latérales et une épaisseur de film inégale sur les substrats à topographie complexe.

Le système complet intègre une unité d'alimentation de micro-liquide de précision, un système de régulation de la pression du gaz porteur et une plateforme de mouvement à trois axes XYZ, avec un module de contrôle de température en option. La pulvérisation présente une énergie cinétique douce sans impact de haute pression, ce qui protège de manière fiable les substrats de précision délicats. Elle réduit considérablement le dépassement de pulvérisation et les éclaboussures de boue, atteignant une utilisation des matériaux bien plus élevée que la pulvérisation binaire traditionnelle. La buse offre des performances anti-colmatage supérieures et des coûts d'exploitation et de maintenance à long terme plus faibles.

L'épaisseur du revêtement peut être ajustée avec précision de quelques dizaines de nanomètres à quelques dizaines de microns, offrant une uniformité de film exceptionnelle. Compatible avec les solutions de faible viscosité et les nano-suspensions, il est largement appliqué dans les MEA de piles à combustible, les plaquettes de semi-conducteurs, les dispositifs MEMS, les éléments de détection, les cathéters à ballonnet médicaux, les films minces optiques, les revêtements isolants électroniques et plus encore. Il répond aux exigences de fabrication de films ultra-minces, de la R&D de pointe à la production à l'échelle pilote.



Paramètres: 


Modèle FSW-1202-L
Nom Atomisation par buse ultrasonique à dispersion 120 kHz
Fréquence 120 kHz
Plage de taille des particules atomisées (μm) 10-35
Largeur de pulvérisation (mm) 40-80
Débit de pulvérisation (ml/min) 0,5-20
Hauteur de pulvérisation (mm) 30-80
Viscosité du liquide (cps) <10
Taille des particules (μm) <5
Pression de dérivation (Mpa) <0,05
Application largement appliqué dans les MEMS, les plaquettes de semi-conducteurs, les piles à combustible PEM, les capteurs, les cathéters à ballonnet médicaux et les films minces optiques



Avantages clés :


✅ L'atomisation à haute fréquence de 120 kHz génère des gouttelettes de taille uniforme, équilibrant la qualité de l'atomisation fine et l'efficacité de la pulvérisation

✅ La pulvérisation par dispersion à large angle vortex permet un revêtement conforme sur les tranchées 3D, les marches, les surfaces courbes et les parois latérales

✅ La pulvérisation douce à faible cinétique protège les substrats de précision fragiles et supprime efficacement l'agglomération de la boue

✅ Contrôle de l'épaisseur du film à l'échelle nanométrique avec des performances de revêtement stables et cohérentes

✅ Une utilisation élevée des matières premières réduit les déchets liquides ; la buse résiste au colmatage pour un entretien facile

✅ Architecture intégrée modulaire, extensible avec des platines chauffantes, des mandrins à vide et des plateformes de mouvement entièrement automatiques



Équipement de pulvérisation par dispersion ultrasonique à haute fréquence 120 kHz



Équipement de pulvérisation à haute fréquence à ultrasons de 120 kHz

Équipement de pulvérisation à haute fréquence à ultrasons de 120 kHz

Les étiquettes: 

Machine de pulvérisation médicale de polymères anti-resténose,  

Type de sonde à ultrasons buse 40Khz,  

Appareil de pulvérisation par ultrasons

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MOQ: 1 unité
Prix: Negotation
Emballage Standard: Emballé de carton
Mode De Paiement: T/T, union occidentale
Capacité D'approvisionnement: 1000 unité par mois
Informations détaillées
Description du produit
Informations détaillées
Lieu d'origine
Chine
Nom de marque
FUNSONIC
Certification
CE
Numéro de modèle
FSW-1202-L
Nom de production:
Atomisation ultrasonique de buse de diffusion 120Khz
Fréquence:
120 kHz
Puissance maximale:
10W
Plage de taille de particules automatisée:
10-35μm
Flux de pulvérisation:
0.5 à 20 ml
Viscosité liquide:
<10cps
Taille des particules:
<5>
Application:
largement appliqué dans les MEMS, les plaquettes semi-conductrices, les piles à combustible PEM, les
Quantité de commande min:
1 unité
Prix:
Negotation
Détails d'emballage:
Emballé de carton
Conditions de paiement:
T/T, union occidentale
Capacité d'approvisionnement:
1000 unité par mois
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Machine de revêtement par pulvérisation ultrasonique avec garantie

Description du produit

Équipement de pulvérisation par dispersion ultrasonique à haute fréquence 120 kHz



Description: 


L'équipement de pulvérisation par dispersion ultrasonique à haute fréquence 120 kHz utilise la résonance à haute fréquence de 120 kHz des transducteurs piézoélectriques pour atomiser en douceur le liquide d'alimentation en gouttelettes fines de taille micrométrique uniformément dispersées. Doté d'un canal de flux vortex intégré à l'intérieur de la buse, le gaz porteur forme un champ de pulvérisation par dispersion à large angle rotatif, conférant au flux d'aérosol une excellente capacité d'enveloppement du flux.

Il offre un revêtement conforme, intégré et uniforme pour les pièces avec des surfaces planes, des marches, des tranchées, des parois latérales, des surfaces courbes et d'autres microstructures 3D diverses. Il résout une limitation industrielle de longue date des buses ultrasoniques focalisées conventionnelles : un mouillage médiocre sur les parois latérales et une épaisseur de film inégale sur les substrats à topographie complexe.

Le système complet intègre une unité d'alimentation de micro-liquide de précision, un système de régulation de la pression du gaz porteur et une plateforme de mouvement à trois axes XYZ, avec un module de contrôle de température en option. La pulvérisation présente une énergie cinétique douce sans impact de haute pression, ce qui protège de manière fiable les substrats de précision délicats. Elle réduit considérablement le dépassement de pulvérisation et les éclaboussures de boue, atteignant une utilisation des matériaux bien plus élevée que la pulvérisation binaire traditionnelle. La buse offre des performances anti-colmatage supérieures et des coûts d'exploitation et de maintenance à long terme plus faibles.

L'épaisseur du revêtement peut être ajustée avec précision de quelques dizaines de nanomètres à quelques dizaines de microns, offrant une uniformité de film exceptionnelle. Compatible avec les solutions de faible viscosité et les nano-suspensions, il est largement appliqué dans les MEA de piles à combustible, les plaquettes de semi-conducteurs, les dispositifs MEMS, les éléments de détection, les cathéters à ballonnet médicaux, les films minces optiques, les revêtements isolants électroniques et plus encore. Il répond aux exigences de fabrication de films ultra-minces, de la R&D de pointe à la production à l'échelle pilote.



Paramètres: 


Modèle FSW-1202-L
Nom Atomisation par buse ultrasonique à dispersion 120 kHz
Fréquence 120 kHz
Plage de taille des particules atomisées (μm) 10-35
Largeur de pulvérisation (mm) 40-80
Débit de pulvérisation (ml/min) 0,5-20
Hauteur de pulvérisation (mm) 30-80
Viscosité du liquide (cps) <10
Taille des particules (μm) <5
Pression de dérivation (Mpa) <0,05
Application largement appliqué dans les MEMS, les plaquettes de semi-conducteurs, les piles à combustible PEM, les capteurs, les cathéters à ballonnet médicaux et les films minces optiques



Avantages clés :


✅ L'atomisation à haute fréquence de 120 kHz génère des gouttelettes de taille uniforme, équilibrant la qualité de l'atomisation fine et l'efficacité de la pulvérisation

✅ La pulvérisation par dispersion à large angle vortex permet un revêtement conforme sur les tranchées 3D, les marches, les surfaces courbes et les parois latérales

✅ La pulvérisation douce à faible cinétique protège les substrats de précision fragiles et supprime efficacement l'agglomération de la boue

✅ Contrôle de l'épaisseur du film à l'échelle nanométrique avec des performances de revêtement stables et cohérentes

✅ Une utilisation élevée des matières premières réduit les déchets liquides ; la buse résiste au colmatage pour un entretien facile

✅ Architecture intégrée modulaire, extensible avec des platines chauffantes, des mandrins à vide et des plateformes de mouvement entièrement automatiques



Équipement de pulvérisation par dispersion ultrasonique à haute fréquence 120 kHz



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