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Système de revêtement de lithographie par ultrasons photorésistant à semi-conducteurs

Système de revêtement de lithographie par ultrasons photorésistant à semi-conducteurs

MOQ: 1 Unité
Prix: Negotation
Standard Packaging: emballé par cas en bois
Payment Method: T/T, Western Union
Supply Capacity: 1000 unités par mois
Informations détaillées
Lieu d'origine
Chine
Nom de marque
FUNSONIC
Certification
CE
Numéro de modèle
FS620
Nom de la production:
Machine à pulvériser à haute précision par ultrasons
Fréquence:
60 kHz
Puissance maximale:
1 à 15 W
Volume maximal de pulvérisation continue:
20 à 1200 ml/h/pcs, évolutif
Largeur effective de pulvérisation:
2-260 mm/pcs, évolutif
Uniformité de pulvérisation:
≥ 95%
Viscosité de la solution:
≤ 30 cps
Voltage d'entrée:
220V±10%/50-60Hz
Mettre en évidence:

système de revêtement par lithographie ultrasonique

,

Système de revêtement de lithographie par ultrasons photorésistant

,

système de revêtement par lithographie par ultrasons à semi-conducteurs

Product Description

Système de revêtement de lithographie par ultrasons photorésistant à semi-conducteurs


 
Définition:


La pulvérisation par ultrasons est un procédé simple, économique et reproductible pour le revêtement photorésistant dans le traitement des plaquettes de photolithographie.Le système de revêtement de lithographie par ultrasons photorésistant à semi-conducteurs de FUNSONIC utilise une technologie de superposition avancée pour contrôler finement le débitLe moulage par pulvérisation à basse vitesse définit le pulvérisation par pulvérisation comme un motif précis et contrôlable pour éviter la surpulvérisation et produire des couches très fines et uniformes.
Le système de revêtement de lithographie par ultrasons photorésistant à semi-conducteurs de FUNSONIC présente des avantages en ce qui concerne le dépôt de revêtements plus uniformes,en particulier le long du haut des parois latérales des rainures à rapport d'aspect élevé et des structures en forme de VLa rotation centrifuge ne peut pas déposer des revêtements uniformes le long des parois latérales, sans accumuler trop de photorésistance au fond de la cavité.

 
 
Paramètres:

 

Type de produit

Machine de revêtement par pulvérisation à haute précision à ultrasons Type de bureau de laboratoire

Les pièces détachées

Machine de revêtement de précision par ultrasons intelligente Type de bureau

FS620

Fréquence de fonctionnement de la buse de pulvérisation 20 à 200 kHz 20-200KHz (Utiliser normalement 60100110120K)
Puissance de la buse 1 à 15 W 1 à 15 W
Volume maximal de pulvérisation en continu 00,01 à 50 ml/min 00,01 à 50 ml/min
Largeur effective de pulvérisation 2 à 100 mm 2 à 100 mm
Uniformité de pulvérisation ≥ 95% ≥ 95%
Taux de conversion de la solution ≥ 95% ≥ 95%
Épaisseur du film sec 20 nm à 100 μm 20 nm à 100 μm
Viscosité de la solution ≤ 30 cps ≤ 30 cps
Plage de température 1 à 60°C 1 à 60°C
Particules atomisées (valeur médiane) 10-45 μm (eau distillée), déterminée par la fréquence de la buse 10-45 μm (eau distillée), déterminée par la fréquence de la buse
Pression de déviation maximale ≤ 0,10 MPA ≤ 0,15 MPA
Voltage d'entrée 220V±10%/50-60Hz 220V±10%/50-60Hz
Mode d'exercice X+Y deux axes entièrement automatique, réglage manuel de l'axe Z XYZ à trois axes, programmable indépendamment
Mode de commande Carte micro-ordinateur, écran tactile de 7 pouces + boutons Système de commande de pulvérisation FUNSONIC, commande PLC, écran tactile couleur 13,3 pouces
Contenu du contrôle Systèmes de pulvérisation par ultrasons, d'alimentation en liquide, de chauffage, de dispersion par ultrasons et autres Systèmes de pulvérisation par ultrasons, d'alimentation en liquide, de chauffage, de dispersion par ultrasons et autres
Méthode d'approvisionnement en liquide Pompes d'injection de précision Pompes d'injection de précision
Système de dispersion par ultrasons (facultatif) 50 ml, 40K, échantillonneur biologique 20 ml ou 50 ml, 40K, échantillonneur de qualité biologique
Puissance nominale du système de dispersion ultrasonique 200 W, 10 A 100 W


 

Les avantages:

 

1- une couverture uniforme des différents contours de surface.
2Capable de recouvrir des rainures à rapport d'aspect élevé avec une excellente uniformité.
3Spray non obstruant pour l'atomisation.
4Capable de déposer des couches minces de micron unique très uniformes.
5- procédé de pulvérisation mature répétable.


   Système de revêtement de lithographie par ultrasons photorésistant à semi-conducteurs 0

Système de revêtement de lithographie par ultrasons photorésistant à semi-conducteurs 1

 

Système de revêtement de lithographie par ultrasons photorésistant à semi-conducteurs 2

 


 

 

 


 

 

 

 


 

 

 

Système de revêtement de lithographie par ultrasons photorésistant à semi-conducteurs

 

Système de revêtement de lithographie par ultrasons photorésistant à semi-conducteurs 3

Système de revêtement de lithographie par ultrasons photorésistant à semi-conducteurs 4

 

 

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Système de revêtement de lithographie par ultrasons photorésistant à semi-conducteurs
MOQ: 1 Unité
Prix: Negotation
Standard Packaging: emballé par cas en bois
Payment Method: T/T, Western Union
Supply Capacity: 1000 unités par mois
Informations détaillées
Lieu d'origine
Chine
Nom de marque
FUNSONIC
Certification
CE
Numéro de modèle
FS620
Nom de la production:
Machine à pulvériser à haute précision par ultrasons
Fréquence:
60 kHz
Puissance maximale:
1 à 15 W
Volume maximal de pulvérisation continue:
20 à 1200 ml/h/pcs, évolutif
Largeur effective de pulvérisation:
2-260 mm/pcs, évolutif
Uniformité de pulvérisation:
≥ 95%
Viscosité de la solution:
≤ 30 cps
Voltage d'entrée:
220V±10%/50-60Hz
Quantité de commande min:
1 Unité
Prix:
Negotation
Détails d'emballage:
emballé par cas en bois
Conditions de paiement:
T/T, Western Union
Capacité d'approvisionnement:
1000 unités par mois
Mettre en évidence

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Système de revêtement de lithographie par ultrasons photorésistant

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système de revêtement par lithographie par ultrasons à semi-conducteurs

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Système de revêtement de lithographie par ultrasons photorésistant à semi-conducteurs


 
Définition:


La pulvérisation par ultrasons est un procédé simple, économique et reproductible pour le revêtement photorésistant dans le traitement des plaquettes de photolithographie.Le système de revêtement de lithographie par ultrasons photorésistant à semi-conducteurs de FUNSONIC utilise une technologie de superposition avancée pour contrôler finement le débitLe moulage par pulvérisation à basse vitesse définit le pulvérisation par pulvérisation comme un motif précis et contrôlable pour éviter la surpulvérisation et produire des couches très fines et uniformes.
Le système de revêtement de lithographie par ultrasons photorésistant à semi-conducteurs de FUNSONIC présente des avantages en ce qui concerne le dépôt de revêtements plus uniformes,en particulier le long du haut des parois latérales des rainures à rapport d'aspect élevé et des structures en forme de VLa rotation centrifuge ne peut pas déposer des revêtements uniformes le long des parois latérales, sans accumuler trop de photorésistance au fond de la cavité.

 
 
Paramètres:

 

Type de produit

Machine de revêtement par pulvérisation à haute précision à ultrasons Type de bureau de laboratoire

Les pièces détachées

Machine de revêtement de précision par ultrasons intelligente Type de bureau

FS620

Fréquence de fonctionnement de la buse de pulvérisation 20 à 200 kHz 20-200KHz (Utiliser normalement 60100110120K)
Puissance de la buse 1 à 15 W 1 à 15 W
Volume maximal de pulvérisation en continu 00,01 à 50 ml/min 00,01 à 50 ml/min
Largeur effective de pulvérisation 2 à 100 mm 2 à 100 mm
Uniformité de pulvérisation ≥ 95% ≥ 95%
Taux de conversion de la solution ≥ 95% ≥ 95%
Épaisseur du film sec 20 nm à 100 μm 20 nm à 100 μm
Viscosité de la solution ≤ 30 cps ≤ 30 cps
Plage de température 1 à 60°C 1 à 60°C
Particules atomisées (valeur médiane) 10-45 μm (eau distillée), déterminée par la fréquence de la buse 10-45 μm (eau distillée), déterminée par la fréquence de la buse
Pression de déviation maximale ≤ 0,10 MPA ≤ 0,15 MPA
Voltage d'entrée 220V±10%/50-60Hz 220V±10%/50-60Hz
Mode d'exercice X+Y deux axes entièrement automatique, réglage manuel de l'axe Z XYZ à trois axes, programmable indépendamment
Mode de commande Carte micro-ordinateur, écran tactile de 7 pouces + boutons Système de commande de pulvérisation FUNSONIC, commande PLC, écran tactile couleur 13,3 pouces
Contenu du contrôle Systèmes de pulvérisation par ultrasons, d'alimentation en liquide, de chauffage, de dispersion par ultrasons et autres Systèmes de pulvérisation par ultrasons, d'alimentation en liquide, de chauffage, de dispersion par ultrasons et autres
Méthode d'approvisionnement en liquide Pompes d'injection de précision Pompes d'injection de précision
Système de dispersion par ultrasons (facultatif) 50 ml, 40K, échantillonneur biologique 20 ml ou 50 ml, 40K, échantillonneur de qualité biologique
Puissance nominale du système de dispersion ultrasonique 200 W, 10 A 100 W


 

Les avantages:

 

1- une couverture uniforme des différents contours de surface.
2Capable de recouvrir des rainures à rapport d'aspect élevé avec une excellente uniformité.
3Spray non obstruant pour l'atomisation.
4Capable de déposer des couches minces de micron unique très uniformes.
5- procédé de pulvérisation mature répétable.


   Système de revêtement de lithographie par ultrasons photorésistant à semi-conducteurs 0

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Système de revêtement de lithographie par ultrasons photorésistant à semi-conducteurs 2

 


 

 

 


 

 

 

 


 

 

 

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