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Machine de revêtement par atomisation par buse à ultrasons à dispersion de 40 Khz pour cellule solaire au titanate de calcium

Machine de revêtement par atomisation par buse à ultrasons à dispersion de 40 Khz pour cellule solaire au titanate de calcium

MOQ: 1 unité
Prix: Negotation
Standard Packaging: break
Payment Method: T/T, Western Union
Supply Capacity: 1000 unités par mois
Informations détaillées
Lieu d'origine
La Chine
Nom de marque
FUNSONIC
Certification
CE
Numéro de modèle
FSW-4002-L
Nom de la production:
Une buse de pulvérisation à ultrasons
Fréquence:
40 kHz
Puissance maximale:
50 W
Plage de taille de particules automatisée:
35 à 48 μm
Écoulement de jet:
1 à 10 ml/min,2 à 20 ml/min,3 à 40 ml/min
Viscosité liquide:
Pour les véhicules à moteur électrique
Taille des particules:
< 12 μm
Application du projet:
Convient pour la pulvérisation complète de la surface du flux
Mettre en évidence:

Machine de revêtement par pulvérisation à nozzle à ultrasons de dispersion

,

Machine de revêtement par atomisation par buse à ultrasons

,

Machine de revêtement de cellules solaires au titanate de calcium

Product Description

40Khz Dispersion ultrasonique de la buse de l'atomisation de revêtement de la puce de semi-conducteur de la cellule solaire titanate de calcium

Définition:

Les buses de dispersion utilisent de l'air/gaz à basse pression pour générer des motifs de pulvérisation uniformes et larges, chaque buste atteignant un maximum de 9.8 pouces (25 centimètres) selon la distance du substratLa vitesse du débit d'air est contrôlable pour permettre un impact faible ou élevé du pulvérisateur atomisé sur le produit ou le substrat.La conception de la buse de dispersion est utilisée pour des motifs larges avec une grande répétabilité dans les buses minces.

La buse à ultrasons de type dispersant est une buse d'atomisation par ultrasons avec un pulvérisateur à cône cyclonique.et par la conception spéciale du canal de flux de vortex, le gaz porteur est converti en un flux d'air en rotation uniforme, de sorte que l'atomisation par ultrasons du brouillard liquide se disperse sous forme d'un cyclone,élargissement de la zone de pulvérisation de l'atomisateurLes buses à ultrasons peuvent également être pulvérisées sur des surfaces verticales ou incurvées et sur d'autres substrats aux bords tranchants.

L'application typique des buses à ultrasons de type dispersion est le revêtement photorésistant sur les puces semi-conducteurs, où la photorésistante est pulvérisée sur les puces semi-conducteurs.En raison de la dispersion rotative du brouillard émis par la buse à ultrasons de type dispersion, un film photorésistant uniforme peut être formé non seulement sur le plan de la gaufre, mais aussi sur les parois latérales et les coins de la microstructure de la gaufre.les buses à ultrasons de dispersion peuvent également être utilisées pour les revêtements de cellules solaires à film mince, revêtements de cellules solaires au titanate de calcium, revêtements de films de transmission et de réflexion AR, revêtements de films isolants, revêtements de revêtements superhydrophobes, revêtements de flux PCB et autres applications.

Paramètres:

Modèle FSW-4002-L
Nom Atomisation à l'échappement par buse à ultrasons de 40 Khz
Fréquence 40 Khz
Plage de taille des particules atomisées ((μm) 35 à 48
Largeur de pulvérisation ((mm) 20 à 80
Débit de pulvérisation ((ml/min) 1-10/2-20/3-40
Hauteur de pulvérisation ((mm) 30 à 150
Viscosité du liquide (cps) < 30
Taille des particules (μm) < 12
Pression de déviation (Mpa) Le taux de dépôt08
Application du projet Convient pour la pulvérisation complète de la surface du flux

L' avantage:

1- Haute stabilité: Fabriqué en alliage de titane haute performance et en acier inoxydable, il a une forte adaptabilité, une résistance à la corrosion, aucune pression, aucun bruit, aucune usure et blocage de la buse,et une grande homogénéité des particules atomisées.
2- Économie de matériaux et protection de l'environnement: l'impact de la pulvérisation est très faible, ce qui ne provoquera pas d'éclaboussures de liquide,réduisant ainsi le gaspillage de matières premières et la pollution atmosphérique causée par la pulvérisation arrièreLe taux d'utilisation du matériau par pulvérisation par ultrasons est plus de 4 fois supérieur à celui de la pulvérisation traditionnelle à deux fluides.
3. Haute contrôlabilité: il peut contrôler avec précision le débit d'atomisation, faible débit de pulvérisation continue, et la forme de pulvérisation est facile à contrôler et à façonner (augmenter le manipulateur de pulvérisation),qui est applicable au domaine industrielEn combinant, la quantité d'atomisation peut répondre à toutes les exigences.
4. Facilité d'entretien: le liquide est transmis à la tête de pulvérisation par sa propre gravité ou pompe basse pression et réalise une atomisation continue ou intermittente.pas de bruitIl n'y a pas besoin d'eau de refroidissement lors de l'atomisation, la consommation d'énergie est faible, l'équipement est simple et le taux de défaillance est faible.La tête de pulvérisation ultrasonique a la fonction de nettoyage et d'entretien quotidien sans.

40Khz Dispersion ultrasonique de la buse de l'atomisation de revêtement de la puce de semi-conducteur de la cellule solaire titanate de calcium

Machine de revêtement par atomisation par buse à ultrasons à dispersion de 40 Khz pour cellule solaire au titanate de calcium 0Machine de revêtement par atomisation par buse à ultrasons à dispersion de 40 Khz pour cellule solaire au titanate de calcium 1

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Machine de revêtement par atomisation par buse à ultrasons à dispersion de 40 Khz pour cellule solaire au titanate de calcium
MOQ: 1 unité
Prix: Negotation
Standard Packaging: break
Payment Method: T/T, Western Union
Supply Capacity: 1000 unités par mois
Informations détaillées
Lieu d'origine
La Chine
Nom de marque
FUNSONIC
Certification
CE
Numéro de modèle
FSW-4002-L
Nom de la production:
Une buse de pulvérisation à ultrasons
Fréquence:
40 kHz
Puissance maximale:
50 W
Plage de taille de particules automatisée:
35 à 48 μm
Écoulement de jet:
1 à 10 ml/min,2 à 20 ml/min,3 à 40 ml/min
Viscosité liquide:
Pour les véhicules à moteur électrique
Taille des particules:
< 12 μm
Application du projet:
Convient pour la pulvérisation complète de la surface du flux
Quantité de commande min:
1 unité
Prix:
Negotation
Détails d'emballage:
break
Conditions de paiement:
T/T, Western Union
Capacité d'approvisionnement:
1000 unités par mois
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Machine de revêtement par pulvérisation à nozzle à ultrasons de dispersion

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Machine de revêtement par atomisation par buse à ultrasons

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Machine de revêtement de cellules solaires au titanate de calcium

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40Khz Dispersion ultrasonique de la buse de l'atomisation de revêtement de la puce de semi-conducteur de la cellule solaire titanate de calcium

Définition:

Les buses de dispersion utilisent de l'air/gaz à basse pression pour générer des motifs de pulvérisation uniformes et larges, chaque buste atteignant un maximum de 9.8 pouces (25 centimètres) selon la distance du substratLa vitesse du débit d'air est contrôlable pour permettre un impact faible ou élevé du pulvérisateur atomisé sur le produit ou le substrat.La conception de la buse de dispersion est utilisée pour des motifs larges avec une grande répétabilité dans les buses minces.

La buse à ultrasons de type dispersant est une buse d'atomisation par ultrasons avec un pulvérisateur à cône cyclonique.et par la conception spéciale du canal de flux de vortex, le gaz porteur est converti en un flux d'air en rotation uniforme, de sorte que l'atomisation par ultrasons du brouillard liquide se disperse sous forme d'un cyclone,élargissement de la zone de pulvérisation de l'atomisateurLes buses à ultrasons peuvent également être pulvérisées sur des surfaces verticales ou incurvées et sur d'autres substrats aux bords tranchants.

L'application typique des buses à ultrasons de type dispersion est le revêtement photorésistant sur les puces semi-conducteurs, où la photorésistante est pulvérisée sur les puces semi-conducteurs.En raison de la dispersion rotative du brouillard émis par la buse à ultrasons de type dispersion, un film photorésistant uniforme peut être formé non seulement sur le plan de la gaufre, mais aussi sur les parois latérales et les coins de la microstructure de la gaufre.les buses à ultrasons de dispersion peuvent également être utilisées pour les revêtements de cellules solaires à film mince, revêtements de cellules solaires au titanate de calcium, revêtements de films de transmission et de réflexion AR, revêtements de films isolants, revêtements de revêtements superhydrophobes, revêtements de flux PCB et autres applications.

Paramètres:

Modèle FSW-4002-L
Nom Atomisation à l'échappement par buse à ultrasons de 40 Khz
Fréquence 40 Khz
Plage de taille des particules atomisées ((μm) 35 à 48
Largeur de pulvérisation ((mm) 20 à 80
Débit de pulvérisation ((ml/min) 1-10/2-20/3-40
Hauteur de pulvérisation ((mm) 30 à 150
Viscosité du liquide (cps) < 30
Taille des particules (μm) < 12
Pression de déviation (Mpa) Le taux de dépôt08
Application du projet Convient pour la pulvérisation complète de la surface du flux

L' avantage:

1- Haute stabilité: Fabriqué en alliage de titane haute performance et en acier inoxydable, il a une forte adaptabilité, une résistance à la corrosion, aucune pression, aucun bruit, aucune usure et blocage de la buse,et une grande homogénéité des particules atomisées.
2- Économie de matériaux et protection de l'environnement: l'impact de la pulvérisation est très faible, ce qui ne provoquera pas d'éclaboussures de liquide,réduisant ainsi le gaspillage de matières premières et la pollution atmosphérique causée par la pulvérisation arrièreLe taux d'utilisation du matériau par pulvérisation par ultrasons est plus de 4 fois supérieur à celui de la pulvérisation traditionnelle à deux fluides.
3. Haute contrôlabilité: il peut contrôler avec précision le débit d'atomisation, faible débit de pulvérisation continue, et la forme de pulvérisation est facile à contrôler et à façonner (augmenter le manipulateur de pulvérisation),qui est applicable au domaine industrielEn combinant, la quantité d'atomisation peut répondre à toutes les exigences.
4. Facilité d'entretien: le liquide est transmis à la tête de pulvérisation par sa propre gravité ou pompe basse pression et réalise une atomisation continue ou intermittente.pas de bruitIl n'y a pas besoin d'eau de refroidissement lors de l'atomisation, la consommation d'énergie est faible, l'équipement est simple et le taux de défaillance est faible.La tête de pulvérisation ultrasonique a la fonction de nettoyage et d'entretien quotidien sans.

40Khz Dispersion ultrasonique de la buse de l'atomisation de revêtement de la puce de semi-conducteur de la cellule solaire titanate de calcium

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